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　　据半导体产业调查公司VLSI统计，半导体设备的关键子系统主要分为8大类。

　　(2)真空系统VacuumSubsystems：控制阀、隔离阀、传输阀、低温泵、干式泵、

　　(1)光刻机：工件台、投影物镜、光源、光束矫正器、能量控制器、光束形状设

　　(2)涂胶显影机：机械传动、陶瓷热盘、中空轴电机、光刻胶泵、高精度温湿度

　　(3)清洗设备：气路系统、物料传送系统、反应腔、电气类、加热器、功能水、

　　(4)PVD：真空及排气系统、MFC、冷却水供给系统、加热电源、阴极电源、检测

　　(5)PECVD：RF射频电源、MFC、反应室系统、尾气处理系统、线)刻蚀机：晶圆盒、ESC、射频发生器、反应控制器、分子泵、等离子体反应

　　(7)离子注入机：离子源、引出电极、离子分析器、加速管、扫描系统、工艺室

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