硅环 Silicon Ring

j6国际采用高纯度单晶硅材料,通过精密CNC加工与超声波清洗工艺,生产的硅环产品表面粗糙度可达Ra0.2μm,尺寸公差控制在0.01mm以内,广泛应用于薄膜沉积

j6国际采用高纯度单晶硅材料,通过精密CNC加工与超声波清洗工艺,生产的硅环产品表面粗糙度可达Ra0.2μm,尺寸公差控制在±0.01mm以内,广泛应用于薄膜沉积、刻蚀等半导体制程设备中,年产能达18万件,产品合格率99.8%以上。

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